气相沉积钕铁硼防护的技术是什么
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发布日期：2021.04.20 10:15
据鑫磊磁电小编了解，日本某些钕铁硼磁铁生产商采用热蒸发和热喷涂相结合的方法，在钕铁硼表面沉积金属铝进行防护，目前国内尚未有单位掌握这项技术。
长期来看，物理气相沉积技术(PVD)，如磁控溅射、离子镀等，是一种非常好的沉积方法。
方法。用此工艺在钕铁硼表面沉积金属膜，其稳定性及镀层/基体结合力高，致密度大，在冷热交变环境中抗腐蚀能力强。研究表明，如果沉积过程中溅射粒子的能量足够大，可以提高磁性矫顽力。
此外，钕铁硼磁体工件的边角对施镀厚度的影响程度远低于电镀和化学镀，而且施镀过程不会产生污染。最近几年，由于技术的发展，生产成本大大降低。
采用物理气相法沉积可得到多种类型的镀层，而Al镀层是一种比较经济的镀层方法，是一种很有前途的先进防护技术，因此，该技术的产业化推广研究应引起产业界和政府部门的重视。
金属镀层的物理气相沉积工艺要解决的问题有：
(1)钕铁硼磁体保护要求在器件的每一面都采用相同的镀层，如何解决磁体在批量加工时的三维旋转问题，保证成膜质量的一致性，既是一个工程技术问题，又是一个溅射粒子在薄膜表面运动沉积的机理问题；
烧结钕铁硼永磁体由于生产过程中表面和内部有大量气孔，需要研究磁体结构形态对溅射层的影响，提高其结合力；
(3)高能量溅射原子在工件表面可达到一定深度，在磁体表面形成磁畴，提高了磁畴的矫顽力，可以通过钉扎机理及其对磁性的影响来控制和优化磁体性能；
(4)金属膜的物理气相沉积腐蚀机理的研究；
降低物理气相沉积规模工艺的成本，提高其市场竞争力，并替代或部分替代现有环境和资源负荷较大的电镀钕铁硼工艺，鑫磊磁电小编认为将是该领域的长期研究目标。
